第51章 华伟的困境！[第1页/共3页]

芯片已经能出产了，再过上几十韶华伟再霸占了光刻胶、晶圆等技术……

你5G牛皮如何了？你甚么都牛皮吗？

这也就是丑国一向卡龙国脖子，但我们没有应对体例的启事。

以是，华伟必须死！

莫非真的就无可挽回了吗？

断供芯片，你研收回芯片。

谁说科学无版图？

小镇里边的修建气势都是按照研发职员地点国籍气势来设想，的确是操碎了心。

两个月以后，就完整没招了。

我们情愿给华伟时候，让它不竭去优化、完美。

孟晚艇返国后，丑国对华伟的针对仍旧没有停止。

遵循企业目前的环境必定是处理不了了。

华伟公司竟然公布了本身研制的芯片——贪吃芯片。

别的，芯片的制造还需求各种紧密设备和东西，如光刻机、氧化炉、注入机等。

贪吃芯片固然研收回来了，但机能方面确切不如入口芯片。

没体例，人才可贵。

就算报酬再好，一有点风吹草动这些人顿时秒变白眼狼。

不过，凭着一口爱国标语，国人还是情愿采办华伟手机。

芯片技术，海内起步较晚，以是应用外洋的技术在所不免。

1.晶圆：芯片的首要原质料，由高纯度的单晶硅制成。

华伟现在是东西东西没有、大家也没有，真是到了山穷水尽的时候。

或许吧，但科学家是有版图的。

丑国一计不成，再生一计。

以是，换了芯片对华伟手机的销量影响并不大。

你有你的针对，我有我的反针对体例。

这是丑国绝对不能接管的，如果听任华伟生长下去，只怕到时想掐脖子都掐不动了。

4.光刻胶：在光刻过程顶用于转移电路图案到芯片大要。

g线、i线首要用于250nm以上工艺，KrF普通用于250nm-130nm工艺，ArF普通用于130nm-14nm，而EUV用于EUV光刻工艺，首要用于7nm以下工艺。

国度晓得了华伟的难处，也主动找上门。

华伟的芯片都是入口的，不止华伟，统统的国产厂商芯片都是入口。

5. CMP抛光质料：用于磨光晶圆大要，使其光滑。

12.包装质料：用于庇护芯片免受环境和机器毁伤。

ArF在2022年前海内自给率根基靠近于0，至于EUV就想都没想了，目前环球仅小日子国能够出产EUV光刻胶。

不过，事情再现波折。

看似很小的一个芯片，里边的科技含量很高，而我们目前底子不具有如许的技术。

更糟糕的是，那些领着高薪、住着洋房的本国科学家，传闻丑国的针对政策以后，刚开端嘴上黑莓说甚么。