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《穿梭在历史大事件中的将军》 1/1
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158 日韩半导体战争[第2页/共6页]

日韩半导体战役后,日本人已有力回天。1999年富士通宣布退出DRAM市场。曾经的三巨擘NEC、日立、三菱三家公司的DRAM部分归并,建立尔必达(Elpida)。

在科技红利之有效研发投入上,远远超越米国人,这才是日本人得胜的本质。

2012年7月,镁光科技以25亿美金收买尔必达。

第一,办理上官本位,三家归并后,办理岗亭的分派并不是遵循才气和职能停止分派,而是,任何岗亭必然要共同参与,比如某一岗亭,一正一副,如果正职来自NEC,那么日立必然是副职。这类办理在当代企业生长史上也是奇葩了。

在DRAM出产制程设备攻干体系中,日本人连合分歧、同心合力,这类举国体制的国度力量令人震惊。

由日本当局出资320亿日元,日立、NEC、富士通、三菱、东芝五至公司结合筹资400亿日元。

要晓得,天朝的国度经济,2016年一年投入在半导体相干范畴的资金就高达1200亿元。

美日两国半导体财产长达50年相爱相杀,恩仇情仇,就此烟消云散。

1960年日本人胜利研制了第一块晶体管集成电路;1963年研制MOS型晶体管。特别是1962年米国人对日本人开放当时环球半导体产业最早进的平面制造工艺技术,使得日本人几近一夜之间就获得集成电路的出产制造技术。

米国完美的人才培养体系,特别是硅谷源源不竭的半导体人才,直到明天还是米国半导体集成电路芯片财产最贵重的资本,科技创新的源泉,科技红利投入的有效包管。

2016年5月,日本东芝与米国闪迪(SanDisk),合伙扶植12英寸晶圆厂,投资超越40亿美金,首要出产48层堆叠的3D NAND闪存芯片,但愿能够和韩国人再次较量一场。

1978年日本人发明64k DRAM,其问世标记取超大范围集成电路(VLSI)期间的到临,硅片直径为100-125mm,芯片面积为26.6mm2,集成度为155000。首要技术为循环位线、折叠数据线。

尔必达的失利,有外因,也有内部身分。尔必达自建立起,有三大内伤,埋下今后毁灭的因子:

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